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		<title>Lithografie on The Infrared Heating Hub</title>
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				<title>Lampe für die Halbleiterlithografie Öfen</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heating-hub.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Lampe für die Halbleiterlithografie Öfen&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Im Bereich der Lithografie ist das Trocknen des Fotolacks keine Option – es ist vielmehr eine entscheidende Faktor für die Qualität des Endprodukts. Wenn die Temperatur beim Weichen Trocknen nicht konstant bleibt oder das Harte Trocknen ungleichmäßig verläuft, entstehen dimensionale Fehler sowie Unreinheiten. Dadurch landen die Wafer im Abfall. Wenn die Ofenglühbirne keine ausreichende thermische Gleichmäßigkeit über die gesamte Charge hinweg gewährleisten kann, bricht das Prozessfenster zusammen.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was wirklich wichtig ist&lt;/strong&gt;&#xA;Wir wählen für unsere Lithografieofenglühbirnen Halogenlampen mit kurzwelligem Licht sowie Quarzelemente, die auf Infrarotlicht &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;optimiert&lt;/a&gt; sind. Dadurch wird eine schnelle thermische Reaktion sowie eine konstante Strahlungsleistung erreicht. Das System ist so eingestellt, dass eine thermische Gleichmäßigkeit von ±0,1°C über die gesamte Trockenungszone hinweg gewährleistet wird. Zudem sorgt dies für eine hohe Wiederholgenauigkeit, sodass die kritischen Abmessungen bei jeder Charge gleich bleiben.&lt;/p&gt;</description>
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