Vysokoteplotní pec pro fab lab

Mon, 01 Jun 2026 20:46:51 +0800

Na podlaze není odchylka 1°C během vypalování fotoresistu „posunem šířky linie“. Znamená to velké množství odpadu. Pokročilé výrobní uzly jsou závislé na zlomcích stupně a pec to musí respektovat, bez výjimky.
Co je technicky důležité
Vyvinuli jsme vysokoteplotní pec s ±0,1°C rovnoměrností nastavené teploty k waferu, která platí po celou dobu vypalovacího profilu – od soft bake po hard bake. Horká zóna je bez křemenných prvků, s nízkým výtokem plynů a používá uzavřený proud vzduchu, takže generování částic je nulové v rámci podmínek čistých prostor třídy 1–100.
Opakovatelnost teploty mezi cykly je zajištěna na ±0,05°C, takže vaše litografická vrstva zůstává v toleranci šarži po šarži, směnu po směně. Řídicí smyčka je nastavena tak, aby se rychle ustálila s minimálním přestřelením – chrání tenký fotoresist i vrstvy pod ním během přechodů rampy.
Proč to v praxi funguje
Potřebujete výrobní tepelnou přesnost, ale v nástroji velikosti pracovního stolu, který zvládne pilotní šarže. Tato pec stabilizuje vypalovací kroky, které ovlivňují variabilitu CD a defekty pinhole, zejména když tepelná nehomogenita způsobí „záhadný drift“.
Výsledkem je vyšší výtěžnost na první průchod, méně přepracování a plánovatelné výrobní cykly. Spotřeba energie je řízena pomocí těsné izolace a logiky cyklu provozu – nižší provozní náklady bez kompromisů v teplotní stabilitě.
Co je třeba vědět
Instalace vyžaduje samostatný elektrický okruh a ověřené připojení odtahu. Pec při rampě odebírá značný proud a udrží přesnou regulaci pouze při čistém a stabilním napájení.
Počítejte s rychlou integrací na místě pro sladění parametrů receptury s vaší vrstvou resistu. Po uvedení do provozu pracuje s minimálním zásahem – čtvrtletně ověřujte tepelnou mapu a dodržujte plán výměny filtrů.

Lab on The Infrared Heating Hub

Vysokoteplotní pec pro fab lab